[23a-12H-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

9:15 〜 9:30奨励賞エントリー

[23a-12H-2] 水熱法で作製したPbTiO₃ エピタキシャル膜のキュリー温度及び歪み緩和

〇(D)胡 雨弦¹、岡本 一輝¹、舟窪 浩¹ (1.東工大物院)

キーワード：

強誘電体,薄膜,チタン酸鉛

正方晶構造を有する強誘電体材料薄膜におけるドメイン構造の研究のほとんどは、これまでキュリー温度 (T_C) 以上の高温で作製された膜について行われており、熱歪みと格子歪み、さらには常誘電相から強誘電相へ相転移時といった複雑なドメイン生成過程の考察が必要であった。これに対し、水熱法を用いてTC温度以下の低温で製膜を行う場合は、製膜温度が低いため熱歪が非常に小さく、相転移もないため、殆ど格子歪みのみによるドメイン制御が期待できる。我々は既に水熱法を用いてTC温度以下で残留歪みの小さいエピタキシャルP bTiO₃膜の作製を報告した。本研究では膜厚の異なる膜について結晶構造の温度変化および相転移付近の挙動を調査した。