[23a-1BJ-1~10] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

11:00 〜 11:15

[23a-1BJ-8] 最小構造寸法150 nmの高効率なSiファイバカプラの製作

〇田原 直樹¹、平 陸人¹、前神 有里子²、土澤 泰²、山本 宗継²、山田 浩治²、馬場 俊彦¹ (1.横国大理工、2.産総研)

キーワード：

シリコンフォトニクス

Si光導波路と面外の光ファイバを高効率で結合するグレーティングカプラを設計し，実際に製作した．設計したグレーティングカプラは中彫り回折格子と貫通孔を組み合わせた製作が容易な構造で最大結合効率83.7%を計算した．300 mm ウエハと液浸ArF露光，2段エッチングプロセスにより製作し，ほぼ理想的な構造の製作に成功した．上方に放射される光の1/e²スポット径10 mm×12 mm，ビーム発散角8.3°×7.2°は結合を想定するファイバモード径とおよそ一致した．