講演情報

15:45 〜 16:00

[23p-12K-8]印刷とパルスレーザーアニールによるGe基板上へのGeSn薄膜成長

〇佐藤剛志¹、宮本聡¹、鈴木紹太²、南山偉明²、ダムリンマルワン^2,3、宇佐美徳隆^1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未材研)

レーザーアニール,ゲルマニウムスズ,結晶成長