講演情報

[23p-12L-9]N2-Ar混合ガスを用いた反応性スパッタ法及び硫化処理によるSnS薄膜のキャリア濃度制御

〇土山 岳斗1、杉山 睦1,2 (1.東理大 創域理工、2.東理大 総研)

キーワード:

硫化スズ,キャリア濃度,窒素添加

本研究では、N2-Ar混合ガスを用いた反応性スパッタ法及びSnS粉末を用いた硫化処理を行い、SnS薄膜のキャリア濃度制御を試みた。