講演情報

[24a-31B-5]酸化W薄膜を用いたWS2薄膜の合成の表面形状への影響

〇(B)高木 颯1、関谷 和志2、大橋 史隆1、Jha Himanshu1、久米 徹二1,2 (1.岐阜大工、2.岐阜大院自)

キーワード:

遷移金属ダイカルコゲナイド,半導体,二硫化タングステン