講演情報
[24p-11F-8]単層グラフェンを用いた中空型シリコンメタサーフェス完全吸収体
〇(M2)宮田 孝太朗1、橋本 将希2、岩崎 拓哉3、渡邊 賢司3、谷口 尚3、藤方 潤一4、高原 淳一1,5 (1.阪大院工、2.阪大工、3.物質・材料研究機構、4.徳島大学、5.阪大フォトニクスセ)
キーワード：
メタサーフェス
グラフェンは優れた光学特性を持つため超高速の光学デバイスへの応用が期待されている。しかし、単層での吸収率は約2.3%に過ぎず応用には感度の低さが障害になる。本研究では、中空型シリコンメタサーフェス上に単層グラフェンを担持した構造において縮退臨界結合条件を満たすことで1.55μmにおいて完全吸収体を実現した。中空型メタ原子はボッシュプロセスにより作製し、ポリマースタンプを用いて機械剥離グラフェンを転写した。