講演情報
[24p-12M-9]原子層堆積法で作製したTiOx:Nb層の導入によるTiOx/SiOy/c-Siヘテロ構造のパッシベーション性能の向上
〇深谷 昌平1、後藤 和泰1,3,4、黒川 康良1、宇佐美 徳隆1,2,5 (1.名大院工、2.名大未来機構、3.新潟大工、4.新潟大 IRCNT、5.名大未来研)
キーワード：
パッシベーション,酸化チタン
高性能な結晶シリコン太陽電池の実現に向けて、原子層堆積法により成膜した酸化チタンの適用が注目されている。ここで、実用化を目指すには更なる電気的特性の向上が必要であり、本研究ではTiOx中への他元素ドーピングに着目した。具体的には、TiOxに添加することで固定電荷密度が増大するTaと同族元素であり、かつ導電性能向上が知られているNbを添加したTiOx: Nb層を作製し、その電気的特性を調査した。