[24p-P05-1~36] 9 応用物性（ポスター）

[24p-P05-28] RTAの合金化プロセスにおける不純物形成の抑制と高品質な熱電ホイスラー合金Fe₂TiAl薄膜の作製

〇飯田 大介¹、熊谷 洋志¹、髙村 陽太¹、中川 茂樹¹ (1.東工大電気電子)

キーワード：

ホイスラー合金,RTA

RTAの合金化プロセスにおいて、反応防止層の導入や雰囲気ガスの変更により不純物の形成を抑制することで、高品質な熱電ホイスラー合金Fe₂TiAl薄膜を形成した。