講演情報

[24p-P05-28]RTAの合金化プロセスにおける不純物形成の抑制と高品質な熱電ホイスラー合金Fe2TiAl薄膜の作製

〇飯田 大介1、熊谷 洋志1、髙村 陽太1、中川 茂樹1 (1.東工大電気電子)

キーワード:

ホイスラー合金,RTA

RTAの合金化プロセスにおいて、反応防止層の導入や雰囲気ガスの変更により不純物の形成を抑制することで、高品質な熱電ホイスラー合金Fe2TiAl薄膜を形成した。