講演情報
[25a-12F-8]低屈折率SiO2光学薄膜のレーザー耐性
〇(M2)浅井 崇良1、室谷 裕志1 (1.東海大院工)
キーワード：
光学薄膜,二酸化ケイ素
高出力レーザーにおいては低密度の膜はARコート使用時にはレーザー誘起損傷しきい値が高く,ミラーコートの時には高密度の膜の方がしきい値が高いと言われるが,同じ材質での密度の異なる膜を作ることが難しいため検証がなされていない.また,近年レーザープロジェクターのような低出力長時間でのレーザー損傷も問題となっている.本研究室の複合成膜装置では,電子ビーム蒸着法による成膜とスパッタリング法による成膜を連続または同時に行うことが出来る.複合成膜手法による成膜においてSiO2光学薄膜は先行研究により屈折率 (充填密度) を制御することができる.本報告では,複合成膜手法を用いてSiO2薄膜を作製し,膜の充填密度の変化に対するレーザー耐性を評価した.