講演情報
[25a-P01-47]磁壁移動型光変調素子のノッチ形状・ハードマグネット最適化による光変調領域の拡大
〇(B)小西 伶美1、青島 賢一2、川那 真弓2、東田 諒2、町田 賢司2、秋山 泰伸1、船橋 信彦2 (1.東海大工、2.NHK技研)
キーワード：
磁気光学空間光変調素子,ホログラフィー,電流誘起磁壁移動
これまでに開発したMO-SLMは初期磁区が大きいため光変調領域が小さく、1画素1×4μm2以下の素子が実現できなかった。今回ノッチの構造やハードマグネット(HM)を変えた磁性細線型光変調素子を試作・評価し、HM膜厚 [Co(0.3nm)/Pd(0.6nm)]×14回積層、ノッチサイズ30~50nm×300nmにおいて、初期磁区のノッチ内閉じ込めによる初期磁区サイズ低減を実現した。これにより光変調領域を2倍に拡大でき、1画素1×2μm2の微細画素実現の見通しが得られた。