講演情報
[25p-22C-8]ペロブスカイトの成膜におけるSi表面に形成されたテクスチャ形状の影響
〇Yang Pengyu1、Liu Peng2、Huynh Thi Cam Tu1、Md. Shahiduzzaman2、當摩 哲也2、大平 圭介1 (1.北陸先端大、2.金沢大)
キーワード：
ピラミッドテクスチャ,エッチング,ペロブスカイト
テクスチャSi上へのカバレージの良いペロブスカイト成膜のため、二つのペロブスカイト成膜方法での四つのテクスチャ構造への成膜を行った。スピンコーティングよりも蒸着による成膜によりカバレージの良い成膜を実現し、かつ反射率を低減できた。60 °Cで作製した超小テクスチャでは反射率が高かった。一方、反射率が低い反テクスチャでは膜の密着性が悪かった。83 °Cで形成した小テクスチャでは、反射率とカバレージの両立を実現した