講演情報
[25p-31B-5]Fe シリサイドコア/Si シェル量子ドットの形成と発光特性
〇斎藤 陽斗1、牧原 克典1、宮﨑 誠一1 (1.名大院工)
キーワード：
ナノドット,発光,beta-FeSi2
リモートH2プラズマ(H2-RP)支援により熱酸化SiO2上にFeナノドットを高密度(~1011cm-2)形成後、基板温度400˚CでSiH4照射を行うことでb-FeSi2ナノドットが形成でき[1]、さらには、SiH4照射量を増加した場合、ドット表面にSi層が選択成長することを明らかにしてきた[2]。本研究では、b-FeSi2コア／Siシェル構造のナノドット形成を意図し、薄層化したSOI構造およびSiO2上に予め形成した高密度Si量子ドットに、Fe超薄膜の電子線蒸着とSiH4照射を行った。