セッション詳細
[9p-N102-1~10]先端レーザー加工のフロンティア:源流から辿る40年の進化と展望
2026年9月9日(水) 13:30 〜 18:15
N102 (総合教育棟 N棟)
[9p-N102-1]オープニング
〇谷 峻太郎1 (1.理化学研究所)
[9p-N102-2]レーザー微細加工40年の軌跡 ― 技術革新と未来への挑戦
〇杉岡 幸次1 (1.理研光量子)
[9p-N102-3]Growth and doping of diamond materials using laser resonant excitation of precursor molecules for high lattice integrity and doping concentrations
〇Yongfeng Lu1 (1.Univ of Nebraska-Lincoln)
[9p-N102-4]超短パルスレーザーで誘起する複屈折の発展と応用- 高密度情報記録と高耐久偏光光学素子
〇坂倉 政明1 (1.エスフォトニクス)
[9p-N102-5]レーザープロセッシングによる機能性微細構造の直接描画と応用展開
〇寺川 光洋1 (1.慶應大理工)
[9p-N102-6]超短パルスレーザーが創るナノ界面 - 表面微細構造形成から機能創成へ -
〇宮地 悟代1 (1.東京農工大)
[9p-N102-7]フェムト秒レーザー加工現象の定量計測とモデル化に向けて
〇小西 邦昭1 (1.東大院理)
[9p-N102-8]電子励起領域への選択的光吸収による超高速レーザー加工
〇伊藤 佑介1 (1.東大院工)
[9p-N102-9]ホログラフィックレーザー加工機の作り方と使い方,その近未来展望
〇早崎 芳夫1 (1.宇都宮大オプティクス)
[9p-N102-10]クロージング
〇長谷川 智士1 (1.宇都宮大学)
