2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

最先端半導体デバイス製造で重要性が高まる原子層堆積（ALD）・原子層エッチング（ALE）をはじめとする原子層プロセス（ALP）を、解析と応用の両面から俯瞰するシンポジウムです。午前は英語セッションとして，次世代半導体向けALDや新規材料をテーマとした海外招待講演3件に加え，KMC法やNNPを活用した反応解析などに関する一般講演3件の，計6件を予定しています。

最先端半導体デバイス製造で重要性が高まる原子層堆積（ALD）・原子層エッチング（ALE）をはじめとする原子層プロセス（ALP）を、解析と応用の両面から俯瞰するシンポジウムです。午後は日本語セッションとして，半導体デバイスへのALP応用やプロセスインフォマティクス，機械学習を活用した反応解析・プロセス設計などをテーマに，招待講演5件と一般講演3件の，計8件を予定しています。