講演情報

シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（３）

[15a-70A_101-1~7]原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（３）

2026年3月15日(日) 9:00 〜 12:20

70A_101 (70周年記念講堂)

座長：浜口智志(阪大)、百瀬健(熊本大)

最先端半導体デバイス製造で重要性が高まる原子層成長（ALD）・原子層エッチング（ALE）をはじめとする原子層プロセス（ALP）を，解析と応用の両面から俯瞰するシンポジウムです。午前は英語セッションとして国内外の研究者による招待講演6件を実施。高温選択ALD，3Dデバイス指向の新パラダイム，超高アスペクト比構造での解析，in situ診断，プラズマALEまで，「作る・削る・測る」を議論します。

10:05 〜 10:35英語発表注目講演

[15a-70A_101-4]New Paradigms in Atomic Layer Deposition for 3D Semiconductor Device Fabrication

〇Han-Bo-Ram Lee^1,2 (1.Incheon National University, 2.ACS Publications)

キーワード：

atomic layer deposition、semiconductor fabrication、artificial intelligence

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