2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

セッション詳細

シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（３）

[15a-70A_101-1~7]原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（３）

2026年3月15日(日) 9:00 〜 12:20

70A_101 (70周年記念講堂)

9:00 〜 9:05

[15a-70A_101-1]オープニング

〇霜垣幸浩¹ (1.東大)

9:05 〜 9:35英語発表

[15a-70A_101-2]Establishing High-Temperature Area Selective ALD Process through Surface Inhibition

〇Haonan Liu¹, Ken Okoshi¹, Hiroki Murakami¹, Yamato Tonegawa¹ (1.TEL TTS)

9:35 〜 10:05英語発表

[15a-70A_101-3]Thin film atomic layer deposition and selective processes

〇Rong Chen¹ (1.Huazhong University of Science and Technology)

10:05 〜 10:35英語発表

[15a-70A_101-4]New Paradigms in Atomic Layer Deposition for 3D Semiconductor Device Fabrication

〇Han-Bo-Ram Lee^1,2 (1.Incheon National University, 2.ACS Publications)

10:50 〜 11:20英語発表

[15a-70A_101-5]Ultra-High Aspect Ratio Test Structures in ALP Process Analytics

〇Mikko Utriainen¹ (1.Chipmetrics Ltd)

11:20 〜 11:50英語発表

[15a-70A_101-6]Development of Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching Processes for Semiconductor Device Fabrication using In Situ Diagnostics

〇Sumit Agarwal¹ (1.Colorado Sch Mines)

11:50 〜 12:20英語発表

[15a-70A_101-7]Plasma-Based Atomic Layer Etching for Atomic-Scale Semiconductor Device Fabrication

〇Heeyeop CHAE¹ (1.Sungkyunkwan Univ. (SKKU))

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