[15a-S2_202-1~10] CS.1 2.3 加速器技術・加速器質量分析・ビーム分析、7.4 イオンビーム一般のコードシェアセッション

10:45 〜 11:00

[15a-S2_202-7] 水およびArクラスター照射下での分子イオン生成過程の検討

〇盛谷 浩右¹、徳 泰成¹、乾 徳夫¹ (1.兵庫県大工)

キーワード：

ガスクラスターイオンビーム、飛行時間型二次イオン質量分析、水クラスター

水およびアルゴンクラスターを一次イオンとしたGCIB-SIMSにおいて、分子イオン生成過程を検討した。ベンジルピリジニウム薄膜にクラスターサイズを制御したArおよび重水GCIBを照射し、E/n依存性を比較した。水クラスターでは低E/n領域で分子イオン比率が顕著に増大し、付加イオンも観測された。Survival yield法により内部エネルギーを評価し、分子イオン脱離機構について議論する。