講演情報
[15a-W2_401-8]三次元光遺伝学刺激のための積層型GaN-μLEDプローブ開発
〇花井 丈弥1、山田 晃大3、西川 敦2、Loesing Alexander2、関口 寛人1,3 (1.名城大、2.ALLOS、3.豊橋技大)
キーワード：
光遺伝学、マイクロLED
従来の単層プローブでは刺激可能な深さ方向の範囲が限定されるため、三次元的な神経ネットワーク制御には不十分であった。本研究では、 LEDによる光刺激範囲を深さ方向に拡張することを目的として、フリップチップ接合技術を用いたマイクロLEDプローブの積層化技術を開発した。さらに、脳組織を模倣した0.9wt%アガロースゲルへの刺入試験により、深さ方向に分散した光刺激点を実現できることを実証した。