2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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10:45 〜 11:00
[15a-W2_402-4]
COガスを用いたSi表面炭化におけるSiC薄膜形成メカニズム
〇服部 翔
1
、安達 正芳
2
、福山 博之
2
、出浦 桃子
1
(1.早大理工、2.東北大多元研)
キーワード:
SiC、表面炭化
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