[15p-PB2-1~69] 1 応用物理学一般（ポスター）

[15p-PB2-27] ポリイミドの化学機械研磨（CMP）に関する分子動力学解析

〇神下 歩舞¹、石崎 史眞¹、安田 雅昭²、平井 義彦²、多田 和広¹ (1.富山高専、2.阪公大院工)

キーワード：

化学機械研磨、分子動力学法