[15p-S4_203-1~16] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

18:00 〜 18:15

[15p-S4_203-16] 半導体に接するmetalの仕事関数の変化とFermi-level pinning (II)

〇鳥海 明¹、西村 知紀² (1.自由業、2.東大工)

キーワード：

ショットキー障壁、仕事関数

金属／半導体界面における金属の仕事関数の変化とFermi-level pinningについて議論する