講演情報
[15p-W9_326-5]窒化バリア層によるMo/Si多層膜ミラーの高反射率化
〇(M1)藤澤 悠太1、Maidul HAQUE1、宇治 駿1、柴田 涼平1、豊田 光紀1 (1.東京工芸大工)
キーワード：
反応性スパッタ、X線反射率計測、エリプソメトリー
波長13nm領域で動作するMo/Si多層膜ミラーでは界面拡散層の影響により直入射反射率が低減する。そこでMoとSiの各界面にN2反応性スパッタによるMo2Nをバリア層として導入し高反射率化を検討している。本講演では予備検討として反応性スパッタによるMo2N膜の成膜および成膜条件の最適化について報告する。成膜時のN2ガス流量の異なる試料を成膜し、XRR測定結果から成膜速度の減少および窒化による界面粗さの低減を読み取った。