講演情報
[16a-PA5-3]硫化時のプリカーサ及び硫化後の冷却速度がSnS薄膜に与える影響
〇小郷 和嗣1、⼟⼭ 岳⽃1、笠 春輝1、杉⼭ 睦1,2 (1.東理大 創域理工、2.東理大 総研)
キーワード：
SnS、硫化、成膜後の冷却速度
本研究では、スパッタ時の基板温度及び硫化処理前のアニール条件を変化させたSnSプリカーサを硫化することで、硫黄の拡散の挙動を制御し、異相形成や表面形態へ与える影響を検討した。さらに、硫化処理後の冷却過程においても、硫黄の拡散や異相形成に影響を与えると考えられることから、硫化処理における冷却プロセスについても検討した。