講演情報
[16a-PA7-22]曲線パターンマスクを用いた自己形成光導波路の形状制御
〇森 悠1、冨木 政宏1 (1.静岡大工)
キーワード：
自己形成法、光導波路
本研究は、光電融合の実現に向けた低コストな光接続技術として、樹脂内で導波路が自律形成される「自己形成法」に着目している 。従来の自己形成法では接続先デバイスとの精密な位置合わせが困難であったが、マスク境界に沿って導波路が形成される「沿着現象」を導入することで形状制御を試みた 。導波路の分岐という課題に対し、UV前処理時間やレーザー照射時間等の作製条件の最適化により、歩留まりが大幅に向上した。