[16a-S2_203-1~9] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

11:30 〜 11:45英語発表

[16a-S2_203-9] Suppression of Native Oxide in BaSi₂ Solar Cells through HTL Engineering

〇Md Ariful Islam¹, Yuka Fukaya¹, Koki Hayashi¹, Mizuki Hirai¹, Yoichiro Koda², Masami Mesuda², Kaoru Toko¹, Takashi Suemasu¹ (1.Tsukuba Univ., 2.Tosoh Corp.)

キーワード：

BaSi2、p-type a-Si、NiOx、HTL