2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(口頭講演)13 半導体：13.5 デバイス／配線／集積化技術

[16a-S2_203-1~9]13.5 デバイス／配線／集積化技術

2026年3月16日(月) 9:00 〜 11:45

S2_203 (南2号館)

9:00 〜 9:15

[16a-S2_203-1]第17回シリコンテクノロジー分科会論文賞・研究奨励賞授賞式

〇中塚理^1,2 (1.シリコンテクノロジー分科会幹事長、2.名大)

9:15 〜 9:45英語発表

[16a-S2_203-2][The 17th Silicon Technology Division Paper Award Speech] Hole Mobility Enhancement in pMOSFETs Through High Ge Content, Asymmetric Strain and (110)-Oriented Channels

〇Chia-Tsong Chen¹, Xueyang Han¹, Kei Sumita¹, Kasidit Toprasertpong¹, Mitsuru Takenaka¹, Shinichi Takagi¹ (1.Univ. of Tokyo)

9:45 〜 10:00

[16a-S2_203-3][第17回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演] 不連続な固相エピタキシャル成長を介して形成される粒内欠陥

〇手面学¹、浅野孝典¹、高石理一郎¹、富田充裕¹、齋藤真澄¹、田中洋毅¹ (1.キオクシア㈱先端研)

10:00 〜 10:15

[16a-S2_203-4][第17回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演] 低温堆積SiO₂膜を用いた仮直接接合

〇大西洸輝¹、北川颯人¹、寺西俊輔²、上殿明良³、井上史大¹ (1.横浜国大、2.DISCO、3.筑波大)

10:30 〜 10:45奨励賞エントリー

[16a-S2_203-5]ウエハ直接接合における接合ダイナミクスとエッジボイド形成の相関解析

〇石井陽向¹、尾形崚太¹、山本泰輔¹、佐藤亮輔¹、北川颯人¹、井上史大¹ (1.横浜国大)

10:45 〜 11:00奨励賞エントリー

[16a-S2_203-6]FM-CVD による3DIC/TSV 向け低温成長AlNの高熱伝導率化に向けたプロセス条件最適化

〇(P)大高雄平¹、Lu Yin-Chi¹、畠山大樹¹、山口潤¹、玉置直樹¹、佐藤登¹、筑根敦弘¹、霜垣幸浩¹ (1.東大院工)

11:00 〜 11:15

[16a-S2_203-7]IR-OBIRCH法を用いた三次元集積回路用TSV構造における不良発生箇所の特定

〇(M1)竹原夕二朗¹、水谷直貴²、高野拓郎³、寺澤靖雄³、居村史人⁴、赤井一郎⁵、青西享⁶、橋新剛⁷ (1.熊大院自、2.WDB（株）、3.（株）ニデック、4.（株）Hundred Semiconductors、5.熊大産ナノ研、6.東大院新領域、7.熊大院先端)

11:15 〜 11:30

[16a-S2_203-8]段差パターン上へのレジスト平坦塗布サポート技術の開発

〇小島遥希¹、川島裕嗣¹、松本壮太¹、奥村祐介¹、松村明¹、有田幸司¹ (1.キオクシア株式会社)

11:30 〜 11:45英語発表

[16a-S2_203-9]Suppression of Native Oxide in BaSi₂ Solar Cells through HTL Engineering

〇Md Ariful Islam¹, Yuka Fukaya¹, Koki Hayashi¹, Mizuki Hirai¹, Yoichiro Koda², Masami Mesuda², Kaoru Toko¹, Takashi Suemasu¹ (1.Tsukuba Univ., 2.Tosoh Corp.)

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