講演情報
[16a-WL2_201-3]スペックル低減に向けた同一像重ね合わせパターン光源
〇黒坂 剛孝1、高木 豊1、伊藤 昭生1、日高 正洋1、杉山 貴浩1 (1.浜ホト)
キーワード：
フォトニック結晶面発光レーザー、パターン光源
我々はフォトニック結晶レーザーおよび変調フォトニック結晶レーザーをベースとしたパターン光源の研究を行っている．スペックル低減を目指し，単一の光軸に対して４つの要素パターン領域を設けるとともに，全ての要素パターン領域からの出力像が遠方で重なるようなパターン設計を行い，各パターン領域の偏光や発振波長を変化させた．チップ全体のサイズは800μm□とコンパクトとなっている．また，可動部なしでの動作を実現している．