講演情報
[16p-WL2_101-10]複合成膜手法により作製したTiO2光学薄膜の基板表面粗さ依存性
〇(M2)兼子 拓弥1、松平 学幸2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
キーワード：
光学薄膜、酸化チタン
EB蒸着法とDCパルススパッタリング法を併用した複合成膜手法により作製したTiO2薄膜について基板表面粗さ依存性を調査した。その結果、複合成膜はEB蒸着と比較して成膜後の表面粗さRaが基板表面粗さの影響を受けにくい傾向を示した。一方、前方散乱率は基板表面粗さの増加に伴い増大し特に複合成膜膜で高い値を示したことから光散乱特性は平均表面粗さRaのみでは十分に説明できないことが示唆された。