講演情報
[16p-WL2_101-3]未処理SrTiO3(100)基板上に成膜されたSrRuO3薄膜における原子レベルで平坦なステップテラス構造の自己形成
〇(M2)荒川 椋大朗1、小森 祥央1、田中 雅章2、谷山 智康1 (1.名大理、2.名工大工)
キーワード：
酸化物、ペロブスカイト、磁性体
未処理SrTiO₃(100)基板上に成膜したSrRuO₃薄膜のステップテラス自己形成機構を調査した。Nd:YAGレーザーによるパルス堆積法を用いた成膜と3Dマスクにより粒子を抑制し、成膜条件による表面形態の変化を評価した。675℃・1時間では粗い島状成長を示したが、成膜時間延長や高温成膜により平坦なステップテラスが形成された。初期島状成長と原子拡散長の増大が自己平坦化に寄与する可能性を示す。