[16p-WL2_401-1~15] 9.4 熱電変換

13:45 〜 14:00

[16p-WL2_401-2] エピタキシャルFe₃Si薄膜/Siにおける横ゼーベック係数の膜厚依存性とその起源

〇北浦 怜旺奈¹、寺田 吏¹、石部 貴史^1,2、成瀬 延康³、水口 将輝⁴、木田 孝則⁵、萩原 政幸⁵、中村 芳明^1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRI、3.滋賀医科大、4.名大未来研、5.阪大理学)

キーワード：

熱電材料、シリサイド