講演情報
[17p-M_110-3]TiO₂–SiO₂ ナノラミネート膜の表面形状・MPPLとLIDTの調査
〇(B)向井 志裕1、南部 誠明1、實野 孝久1,2、本越 伸二3、谷川 智之4、三上 拓哉5、余語 覚文1、吉村 政志1 (1.阪大レーザー研、2.極限レーザー核物理研究所、3.レーザー総研、4.阪大院工、5.オカモトオプティクス)
キーワード：
光学素子
ALD法で作製したTiO₂単膜およびSiO₂約10%含有TiSiOₓナノラミネート膜において、NL膜はTiO₂単膜に比べLIDTが最大1.62倍向上した。MPPL測定では、TiO₂単膜で明確な発光と空間的不均一性が観測され、AFM像と対応した欠陥局在が示唆された。一方NL膜では発光および表面粗さが抑制され、結晶化・柱状成長の抑制による欠陥低減がLIDT向上に寄与したと考えられる。