講演情報
[17p-W9_325-11]Cat-CVD装置での原子状水素処理によるp型シリコンナノ結晶／酸化シリコン複合膜のパッシベーション性能向上
〇(M2)山口 大翔1、深谷 昌平1、後藤 和泰1,2,3、大平 圭介4、ビルデ マーカス5、福谷 克之5、黒川 康良1,6、宇佐美 徳隆1,6,7 (1.名大院工、2.新潟大工、3.新潟大IRCNT、4.北陸先端大、5.東大生研、6.名大未来機構、7.名大未来研)
キーワード：
パッシベーション、太陽電池
我々は，優れたキャリア輸送と長期信頼性の両立を目指し，シリコンナノ結晶／酸化シリコン複合膜をパッシベーション膜として利用する研究を進めている．現在，p型複合膜の性能は，n型複合膜と比較して相対的に低い．パッシベーション膜は水素導入を行うことで，さらなる高性能化を達成できる可能性がある．本研究では，触媒化学気相堆積装置にてp型複合膜へ原子状水素を導入することで，パッシベーション性能の向上を検討した．