講演情報
[17p-WL2_401-3]Si フォトニクスメタ構造グレーティングカプラの製作誤差分析
〇田原 直樹1、鎌田 幹也1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
キーワード：
シリコンフォトニクス、ファイバカプラ、グレーティングカプラ
Siフォトニクスメタ構造グレーティングカプラについて，製作した構造をSEM画像を用いて再現し，設計構造との比較および回帰分析により製作誤差要因を解析した．その結果，貫通孔寸法よりも孔間ギャップが誤差に強く影響し，近接効果による製作誤差増大が確認された．誤差補償設計についても検討している．