[18p-S2_203-1~10] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

15:00 〜 15:15

[18p-S2_203-4] 低接触抵抗率の実現に向けたGe-Bi-Te/Ge(111)のvan der Waals 界面

〇張 文馨¹、畑山 祥吾¹、岡田 直也¹、入沢 寿史¹、前田 辰郎¹、齊藤 雄太^1,2 (1.産総研SFRC、2.東北大)

キーワード：

Ge、Bi2Te3、van der Waals