3 光・フォトニクス:3.7 光計測技術・機器
一般セッション(口頭講演)
2026年3月15日(日) 9:30 〜 12:00
WL2_301 (西講義棟2)
座長:安井 武史(徳島大)、 橋口 幸治(産総研)
一般セッション(口頭講演)
2026年3月15日(日) 13:30 〜 16:00
WL2_301 (西講義棟2)
座長:浅野 元紀(NTT)、 野田 康平(産総研)
一般セッション(ポスター講演)
2026年3月15日(日) 16:30 〜 18:00
PA3 (アリーナ (1F))
一般セッション(口頭講演)
2026年3月16日(月) 9:30 〜 12:00
WL2_301 (西講義棟2)
座長:染川 智弘(レーザー総研)、 小山 勇也(千葉工大)
一般セッション(口頭講演)
2026年3月17日(火) 13:30 〜 17:45
WL2_301 (西講義棟2)
座長:加藤 峰士(電通大)、 大饗 千彰(電通大)