[9C4] VSX（表面）

16:45 〜 17:00

[9C4-02] Cr 系 TMD 原子層薄膜の作製と角度分解光電子分光

*山本 晃輝¹、栁沢 幸紀¹、西上 莉楓¹、菅原 克明^1,2,3、小澤 健一⁴、大坪 嘉之⁵、高橋 隆¹、佐藤 宇史^1,2,6,7,8 (1. 東北大院理、2. 東北大WPI-AIMR、3. JST-PRESTO、4. 高エ研物構研、5. 量研機構、6. 東北大CSIS、7. 東北大SRIS、8. 東北大MathCSS)

キーワード：

放射光、ARPES、角度分解光電子分光、TMD、遷移金属大カルコゲナイド、強磁性