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一般社団法人レーザー学会学術講演会第45回年次大会

9:00
10:00
11:00
12:00
13:00
14:00
15:00
16:00
17:00
18:00
第I会場（B2F ダリア1）
第II会場（B2F ダリア2）
第III会場（B2F コスモス1）
第IV会場（B2F コスモス2）
第V会場（B2F ラン1）
第VI会場（B2F ラン2）
第VII会場（B1F 会議運営事務室①②）
第VIII会場（B1F 会議運営事務室④）
第IX会場（B1F 会議運営事務室⑥）
ポスター会場A（B2F サクラ）
ポスター会場B（B2F サクラ）
ポスター会場D（B2F サクラ）
ポスター会場E（B2F サクラ）
ポスター会場G（B2F サクラ）
展示会場（B1 会議運営事務室ロビー）
口頭講演(9:30 〜 11:00)

招待セッション１

座長：溝尻 瑞枝
D: レーザープロセシング
口頭講演(11:15 〜 12:15)

液相プロセス

座長：渡邉 歴
D: レーザープロセシング
口頭講演(17:00 〜 18:30)

溶接・積層造形

座長：伊藤 佑介
D: レーザープロセシング
口頭講演(9:30 〜 10:30)

光渦レーザー

座長：小澤 祐市（東北大学多元物質科学研究所）
B: レーザー装置
口頭講演(10:45 〜 12:00)

中赤外レーザー

座長：北島 将太朗（名古屋大学）、藤 貴夫（豊田工業大学）
B: レーザー装置
口頭講演(10:45 〜 12:15)

発光デバイス、光材料

座長：近藤 圭祐（宇都宮大学）
F: 光機能材料・デバイス
口頭講演(9:30 〜 10:30)

受賞記念講演

座長：福田 祐仁
C: 高強度・高エネルギー レーザー応用
口頭講演(14:30 〜 15:30)

EUV光源

座長：安部 勇輝
C: 高強度・高エネルギー レーザー応用
口頭講演(13:45 〜 15:15)

レーザー化学

座長：片山 郁文（横浜国立大学）
A: レーザー物理・化学
口頭講演(15:30 〜 17:00)

レーザー化学

座長：木村 謙介（理化学研究所）
A: レーザー物理・化学
口頭講演(9:30 〜 10:30)

ラマン分光

座長：田上 周路
E: レーザー計測
口頭講演(15:30 〜 16:45)

ホログラフィⅠ

座長：池田 佳奈美（大阪公立大学）
H: 光情報処理
展示会(10:00 〜 17:30)

展示会