半導体・エレクトロニクスデバイスを支える材料と成形技術

13:30 〜 13:50

[B-205] 高強度VUV光照射によりポリシラザンから変換された光緻密化SiN膜とその水蒸気バリア性能

*硯里 善幸¹、宋 侣洋¹、孫 鶴¹ (1. 山形大学)

キーワード：

バリア、光緻密化、フレキシブル

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