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Symposium : Atomic Layer Process (ALP) analysis and application technologies (2)

[7a-S103-1~7]Atomic Layer Process (ALP) analysis and application technologies (2)

Sun. Sep 7, 2025 10:00 AM - 12:05 PM JST
Sun. Sep 7, 2025 1:00 AM - 3:05 AM UTC
S103 (Lecture Hall South)
Takeshi Momose(Kumamoto Univ.), Yukihiro Shimogaki(Univ. of Tokyo)
最先端半導体デバイス製造において重要性が高まる原子層成長(ALD)・エッチング(ALE)を対象に、プロセスサイエンスを中心とした選択性制御、その場観察、原子レベルシミュレーションなどに関する最新研究および将来技術を議論します。午前の部では、2件の招待講演(韓国ALDワークショップの紹介、機械学習を用いた製膜プロセス最適化)を予定しています。

[7p-S103-1~11]Atomic Layer Process (ALP) analysis and application technologies (2)

Sun. Sep 7, 2025 1:30 PM - 5:15 PM JST
Sun. Sep 7, 2025 4:30 AM - 8:15 AM UTC
S103 (Lecture Hall South)
Takeshi Momose(Kumamoto Univ.), Kazuhiro Karahashi(Osaka univ.), Yukihiro Shimogaki(Univ. of Tokyo)
午前と同様に、原子層成長(ALD)・エッチング(ALE)に関する最先端のプロセスサイエンスを取り上げ、選択性制御、その場観察、原子レベルシミュレーションに関する先進的な研究成果や将来展望について議論します。午後の部では、3件の招待講演(分光エリプソメトリーによるその場観察、ALEにおけるエンドポイント検出、クラスタービームによる表面改質のALP応用)を含みます。
2 results ( 1 - 2 )
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