2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会

最先端半導体デバイス製造において重要性が高まる原子層成長（ALD）・エッチング（ALE）を対象に、プロセスサイエンスを中心とした選択性制御、その場観察、原子レベルシミュレーションなどに関する最新研究および将来技術を議論します。午前の部では、2件の招待講演（韓国ALDワークショップの紹介、機械学習を用いた製膜プロセス最適化）を予定しています。

午前と同様に、原子層成長（ALD）・エッチング（ALE）に関する最先端のプロセスサイエンスを取り上げ、選択性制御、その場観察、原子レベルシミュレーションに関する先進的な研究成果や将来展望について議論します。午後の部では、3件の招待講演（分光エリプソメトリーによるその場観察、ALEにおけるエンドポイント検出、クラスタービームによる表面改質のALP応用）を含みます。