[14p-K503-1~17] CS.3 Code-sharing Session of 6.1 & 13.3 & 13.5

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)

[14p-K503-5] Ferroelectric properties of a co-doped HfO₂-based ferroelectric Y_xNb_xHf_1-2xO₂

〇Shutaro Asanuma¹, Shinji Migita¹, Hiroyuki Ota¹, Yukinori Morita¹, Shogo Hatayama¹ (1.SFRC AIST)

Keywords:

ferroelectric,HfO2,Co-dope

HfO₂系強誘電体は応用が期待されているが、電界印加に伴い酸素欠陥が移動しEndurance特性が劣化すると言う課題がある。そこで、我々は、Endurance特性の劣化しないHfO₂系強誘電体薄膜の作製を目指し、価数の異なる複数の元素をHfO₂に共添加することで全体の電荷平衡を保ったまま不均一な局所電場を導入した薄膜を成膜し強誘電性を評価する実験を行った。