[14p-P02-1~20] 6.4 Thin films and New materials

[14p-P02-16] Fabrication of fcc-type Ni_1-xFe_x epitaxial thin films by H₂ reduction of solid solution oxides

〇(M1)Yusei Yamanaka¹, Kazuya Kawamura¹, Satoru Kaneko^2,1, Akifumi Matsuda¹ (1.Science Tokyo, 2.KISTEC)

Keywords:

epitaxial thin film,topotactic reduction,nickel-iron alloys

Ni_1–xFe_x系は高い透磁率をもつ軟磁性材料であり、Fe比率xによる構造と磁気特性の変化が知られている。そのエピタキシャル薄膜を用いた積層構造は、磁気トンネル接合を利用したTMR素子やMRAMなどへの応用も期待される。本研究では、Ni_1–xFe_xOエピタキシャル薄膜を前駆体としたfcc型Ni_1–xFe_x薄膜の作製と、Fe含有量が結晶構造と物性に与える影響を検討した。