[14p-P02-1~20] 6.4 薄膜新材料

[14p-P02-16] 酸化物固溶体のH₂還元によるfcc型Ni_1-xFe_xエピタキシャル薄膜の作製

〇(M1)山中 悠生¹、河村 和哉¹、金子 智^2,1、松田 晃史¹ (1.東京科学大物質理工、2.KISTEC)

キーワード：

エピタキシャル薄膜、トポタクティック還元、ニッケル鉄合金

Ni_1–xFe_x系は高い透磁率をもつ軟磁性材料であり、Fe比率xによる構造と磁気特性の変化が知られている。そのエピタキシャル薄膜を用いた積層構造は、磁気トンネル接合を利用したTMR素子やMRAMなどへの応用も期待される。本研究では、Ni_1–xFe_xOエピタキシャル薄膜を前駆体としたfcc型Ni_1–xFe_x薄膜の作製と、Fe含有量が結晶構造と物性に与える影響を検討した。