[15a-K102-1~1] 8.7 Plasma Electronics Invited Talk

10:30 AM - 11:45 AM JST(1:30 AM - 2:45 AM UTC)

[15a-K102-1] [INVITED] A Review of the Last 30 Years of Research on High Aspect Ratio Hole Etching

〇Kazuaki Kurihara¹ (1.Frontier Tech. R&D Inst. KIOXIA Corp.)

Keywords:

high aspect ratio,etching,semiconductor

本報告では現在に至るまでの高アスペクト比ホールエッチングに関連して、穴底でのプラズマ表面反応現象を観察する手法の研究開発状況などに関して紹介する予定である。