Presentation Information
[15a-K310-1]Multilayering Effects to Strain and Optical Properties of Dot-on-dot Ge Nanodots
〇Yuta Ito1, Ryo Yokogawa2,3,4, Wei-Chen Wen5, Yuji Yamamoto5, Yuiha Maeda1, Atsushi Ogura1,2 (1.Meiji Univ., 2.MREL, 3.RISE, 4.Hiroshima Univ., 5.IHP)
Keywords:
nanodot,multilayer,strain
Ⅳ族材料によるナノドットはSiプロセスとの高い親和性よりOn chip、Chip内光素子への応用が期待される。自己組織化成長はドットの多層化が容易であり、積層配列やサイズの制御が可能である。しかし、多層化に伴い、上下スペーサよりナノドットに導入される歪量、光学特性は未だ不明確である。以上を鑑み、SiGeをスペーサとするDot-on-dot Geナノドットにおける露出ドット、埋め込みドットの比較を行い、多層化が発光特性に与える影響を調査した。
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