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[15p-K206-5]Data-Driven Prediction Model for Si3N4 Wet Etching Using DHF

〇(M1)Koki Shibata1, Takashi Ota2, Koji Ando2, Naoko Misawa1, Chihiro Matsui1, Ken Takeuchi1 (1.Univ. Tokyo, 2.SCREEN SPE)

Keywords:

wet etching,process optimization

DHFを用いたSi3N4のウェットエッチングプロセスにおいて、プロセスレシピで使用される複数のパラメータを跨いだ包括的なデータ解析を通し、エッチングレートのスキャン動作依存性に着目したデータドリブンなモデルを提案する。エッチングレートの予測だけでなく定式化を経ることで所望のエッチングレートを達成するためのレシピ解明という逆問題にも直接応用可能となった。

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