[15p-P10-1~4] 13.5 Semiconductor devices/ Interconnect/ Integration technologies

[15p-P10-1] 【Absent】Analysis of superconducting niobium thin films for Cryo-CMOS

〇Mizuki Ogawa¹, Ryosuke Hayashi¹, Seibun Oshio¹, Kazuki Adachi¹, Takahisa Tanaka¹, Munehiro Tada¹ (1.Keio Univ.)

Keywords:

Niobium,superconducting,thin film

4KステージにおけるCryo-CMOSの性能、および消費電力を改善するため、LSI向けの超伝導配線としてNb配線の検討を行った。LSIの利用においては100nm幅以下のNb配線形成の必要がある一方で、Nbは酸化しやすく、Nbの酸化抑制を効果的に行う必要がある。本研究ではNb膜表面にCap層としてRuを成膜し、酸化抑制機構の解析を行った。