講演情報
[15p-P10-1]Cryo-CMOS向け超伝導Nb膜の酸化機構の解析
〇小川 瑞月1、林 凌佑1、押尾 世文1、安達 和喜1、田中 貴久1、多田 宗弘1 (1.慶大理工)
キーワード：
ニオブ、超伝導、薄膜
4KステージにおけるCryo-CMOSの性能、および消費電力を改善するため、LSI向けの超伝導配線としてNb配線の検討を行った。LSIの利用においては100nm幅以下のNb配線形成の必要がある一方で、Nbは酸化しやすく、Nbの酸化抑制を効果的に行う必要がある。本研究ではNb膜表面にCap層としてRuを成膜し、酸化抑制機構の解析を行った。