[15p-P11-1~14] 13.8 Optical properties and light-emitting devices

[15p-P11-4] Effect of substrate temperature gradient on UV emission intensity of ZnO films prepared using the mist CVD method

〇Kohei Funaki¹, Yuhei Tsuzuku¹, Akira Hujisawa¹, Haruki Fukada¹, Atsushi Yamaguchi¹ (1.Kanazawa Institute of Technology)

Keywords:

Mist CVD,Substrate temperature,ZnO

ファインチャネル方式とホットウォール方式を組み合わせた研究室独自のミストCVD装置を用いた各種酸化物薄膜の開発において、成膜時に基板上へ実際に到達しているミストの量を計測（数値化）する技術を見出した。さらに、基板上の反応空間に温度勾配を意図的に設けることで、ZnO膜からの紫外発光強度を飛躍的に向上させることに成功した。