[16a-K403-1~6] 6.2 Carbon-based thin films

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)

[16a-K403-6] Effects of RF Power and Gas Pressure on Amorphous Carbon Nitride Thin Films Deposited by Pressure-gradient RF Magnetron Sputtering

Kohei Takaki¹, Wakana Koya¹, Hiromi Shima², Takaaki Morimoto³, 〇Masami Aono¹ (1.Kagoshima Univ., 2.Commun. Eng., NDA, 3.Mater.Sci.Eng., NDA)

Keywords:

Amorphous,Carbon,Nitride

反応性高周波マグネトロンスパッタ法で作製されるアモルファス窒化炭素（a-CN_x）薄膜において、可視光を照射したとき形状が変化する光誘起変形が見られる。この光誘起変形は可視光照射下でのみ生じる可逆性の現象であるが、その起源はまだ十分に解明されていない。そこで本研究では、チャンバー内に圧力勾配を生じることのできる装置を用いて、これまでとは異なる性質のa-CN_x薄膜の作製を試み、その基礎物性および光誘起変形の有無について調べた。